Publikationen Anita Förster
| 1. | Förster, A.; Drechsler, A.; Kobsch, O.; Synytska, A.; Caspari, A.; Bellmann, C.; Grundke, K.; Stamm, M.; Heller, M.; Gierth, J.; Voigt, M.; Völkel, L. Anionic surfactants for defect suppression in 193-nm lithography - Study of the adsorption process by ellipsometry andstreaming potential measurements mehr Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects (2010) 8-13 |
